| 规格级别 | 外观颜色 | ||
| 该料用途 | |||
| 备注说明 | |||
| 性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
| 物理性能 | 比重 | ASTMD792 | 0.915 | g/cm³ | |
| 物理性能 | 熔流率（熔体流动速率）(190°C/2.1kg) | ASTMD1238 | 0.70 | g/10min | |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 105 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 110 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 5.20 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 38.9 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 34.7 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 610 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 630 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 1100 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:50µm | ASTMD1922 | 830 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:50µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
| 薄膜 | 始封温度(50µm) | 内部方法 | 96.0 | °C | |
| 薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 50 | µm | ||
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,MD:50µm | ISO527-3 | 105 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸模量 | 2%正割,TD:50µm | ISO527-3 | 110 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:屈服,50µm | ISO527-3 | 5.20 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:屈服,50µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 38.9 | MPa |
| 薄膜 | 拉伸应力 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 34.7 | MPa |
| 薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,50µm | ISO527-3 | 610 | % |
| 薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,50µm | ISO527-3 | 630 | % |
| 薄膜 | 落锤冲击(50µm) | ISO7765-1/A | 1100 | g | |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:50µm | ASTMD1922 | 830 | g |
| 薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:50µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
| 薄膜 | 始封温度(50µm) | 内部方法 | 96.0 | °C | |
| 光学性能 | 光泽度(45°,50.0µm) | ASTMD2457 | 66 | ||
| 光学性能 | 雾度(50.0µm) | ASTMD1003 | 9.0 | % | |
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